De ins & outs van conformele dunne-filmdepositie

Bent u betrokken in activiteiten waarbij dunne films op poreuze oppervlakken of structuren met een hoge aspectratio essentieel zijn? Mis dan zeker op 10 februari volgend, door imec georganiseerd event niet! Hoe conformeel coaten met behulp van verschillende dunne-filmdepositietechnologieën, zowel vacuüm als in atmosferische condities, is het onderwerp van deze themanamiddag.

Tijdens het event krijgt u tips & tricks mee over hoe u conformaliteit kunt bereiken voor verscheidene dunne-filmdepositietechnologieën. Hierbij worden de parameters belicht die de depositiesnelheid beïnvloeden, hoe haalbaar conformaliteit is, welke solventen, draaggassen of additieven te gebruiken en zo meer. U gaat naar huis met een toolbox om zelf uw conformeel dunnefilm-depositieproces te ontwikkelen.

Technologieën die aan bod komen:

  • Atomic & molecular layer deposition (ALD & MLD): bij ALD wordt een dunne film (atomische) laag per laag aangebracht. MLD is een recentere variant, waarbij de dunne film opgebouwd wordt uit grotere moleculaire fragmenten.
  • Electrochemical deposition (ECD), waarbij zelflimiterende reacties worden benut om conformaliteit te bereiken.
  • Chemical solution deposition (CSD): extreme performantie is mogelijk door het sprayen van mist gecombineerd met substraatverwarming.

Ook zullen resultaten worden belicht uit het SBO-project SoS-Lion. Ten slotte kunt u discussies aangaan met experts van UHasselt, UGent, KU Leuven, imec en andere specialisten ter zake.

Het event vindt plaats op 10 februari in Heverlee. Meer info vindt u hier.

Op dit event zal ook Sirris aanwezig zijn, dat met het Smart Coating Application Lab actief is in technieken complementair aan de besproken technologie.